Una nuova scoperta potrebbe permetterci di dire addio, in futuro, alle ventole o ai classici sistemi a liquido per il raffreddamento dei processori. Alcuni ricercatori dell’Università di Rochester hanno trovato un modo per far fluire del liquido verso l’alto all’interno di scanalature su una superficie di silicio, superando la spinta gravitazionale senza pompe o altri dispositivi meccanici.

La ricerca è stata guidata dal professore Chunlei Guo e dall’assistente Anatoliy Vorobyev che hanno dimostrato come “incidendo” il silicio con un raggio laser ad alta potenza e di breve durata si riesca a far sì che un liquido salga verso l’alto come se fosse risucchiato da una cannuccia. In questo caso, non c’è una pressione esterna a spingere il liquido verso l’alto, che risale la superficie da solo. Creando strutture in silicio in scala nanometrica, Guo ha aumentato esponenzialmente l’attrazione che le molecole di acqua sentono verso il silicio. L’attrazione verso silicio diventa così forte, infatti, da superare il legame che le molecole d’acqua sentono l’una con l’altra.

Così, anziché rimanere unite, le molecole d’acqua si “scalano vicendevolmente” per avvicinarsi al silicio. L’acqua risale il silicio alla velocità di 3,5 centimetri al secondo. “Le incisioni laser”, afferma Guo, “sono così precise e non distruttive che al tocco la superficie sembra liscia e inalterata”. A detta del ricercatore questa scoperta potrebbe permettere di realizzare nuovi sistemi di raffreddamento per i computer migliori in tutto e per tutto degli attuali.