NVIDIA ha confermato in data odierna che sarà la prima società produttrice di semiconduttori a far fabbricare alcune serie selezionate di GPU presso gli impianti di Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) (TAIEX: 2330, NYSE: TSMC) con la nuova tecnologia di processo a 0,11 μm (micron). NVIDIA intende combinare in modo sinergico la propria capacità di progettazione con il processo a 0.11 micron di TSMC per realizzare processori grafici con prestazioni estreme e minimo assorbimento energetico.

“La decisione di passare al nuovo processo sottolinea la solidità della relazione esistente tra TSMC e NVIDIA”, ha dichiarato Di Ma, vicepresidente delle attività operative presso NVIDIA. "Questa nuova tecnologia di fabbricazione, unitamente a numerosi perfezionamenti dell’architettura, ci permette di arricchire il nostro portafoglio con prodotti appositamente concepiti per consentire agli utenti finali di interagire con una vasta gamma di dispositivi digitali. Riteniamo che questa innovazione possa schiudere la porta a numerose nuove e interessantissime opportunità.”

La tecnologia di processo a 0,11 micron di TSMC è, in ultima analisi, una miniaturizzazione fotolitografica del suo processo a 0,13 micron. Il nuovo processo sarà reso disponibile sia in versione normale che in una ad alte prestazioni, entrambe basate su dielettrici FSG. Sebbene i risultati effettivi siano fortemente dipendenti dal design del prodotto, il processo TSMC a 0,11 micron nella versione ad alte prestazioni include anche perfezionamenti dei transistor intesi a migliorarne la velocità e ridurne l’assorbimento energetico rispetto alla tecnologica FSG a 0,13 micron.

TSMC ha iniziato lo sviluppo della tecnologia a 0,11 micron e alte prestazioni nel 2002 e ha portato a termine la qualificazione del processo nel dicembre del 2003. Sono già state preparate le norme e le linee guida di progettazione, sono stati sviluppati i modelli SPICE e SRAM e si prevede che i primi compilatori di terze parti saranno disponibili già a marzo. Le rese hanno già raggiunto livelli che consentono la produzione in serie. che è già iniziata per la versione a bassa tensione. La versione meno innovativa della tecnologia a 0,11 micron dovrebbe entrare in produzione entro il primo trimestre del prossimo anno.